xfythy 发布于2024-01-10 03:45:09 碳化硅板 18 次
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1、陶瓷过滤板是一种新兴的有机高分子材料,被誉为“第五大塑料”,因其卓越的性能而被广泛应用于国民经济众多领域。产品应用领域涉及轻工、化工、电子、纺织、医疗、建筑、建材、汽车、国防、航天、航空等。
2、名称陶瓷过滤板由氧化铝陶瓷过滤板,碳化硅陶瓷过滤板及氧化锆陶瓷过滤板三大类组成。
3、就品牌来说的话,一般国内比较好的有格律诗和科特。
solidworks画碳化硅泡沫过滤板方法:使用旋转工具绘制一个旋转实体,绘制好旋转体后,将旋转体进行抽壳,使用特征工具栏里的抽壳命令。在旋盖的顶面绘制过滤口,使用拉伸切除工具进行特征建模。
操作步骤如下:先打开SolidWorks软件。在右键点击想要根管基准面的草图,选择“编辑”。然后做一个圆柱,在45度做一个参考基准面,加草图圆,挤出到下一面与圆柱相交。
右键单击要链接的尺寸,快捷菜单中单击 连接数值 ,显示 共享数值 对话框。双击尺寸,显示 修改 对话框,在下拉列表框中选择 链接数值,同样显示 共享数值 对称框。
新建模板。打开任意一个工程图,点击另存为—工程图模板,即可将打开的图纸存成模板。直接点击SolidWorks打开,然后选择一模板进行编辑、保存得到新模板。
碳化硅具有极高的硬度,普通的机械抛光很难实现其表面平整。一般需要***用化学机械抛光法,也称CMP。 CMP抛光液主要由氧化剂、抛光粒子、pH缓冲液等组成。常用的抛光粒子有二氧化硅、氧化铈等。
碳化硅衬底研磨有两道工艺流程即先粗磨后精磨。碳化硅衬底粗磨时可使用氧化铝抛光液。抛光液直接接触工件表面,进行不断地磨削,提升硅晶圆表面抛光光洁度。在光学晶体和碳化硅表面抛光中常用到氧化铝抛光液。
碳化硅衬底抛光包括粗抛和精抛两道工艺流程 在碳化硅衬底粗抛光过程中使用的是紫色高锰酸钾抛光液。高锰酸钾与碳化硅的表面直接接触发生氧化反应,从而可将碳化硅表面氧化。在碳化硅衬底精抛光过程中,可用硅溶胶抛光液。
在半导体晶圆粗抛过程中则使用紫色高锰酸钾抛光液与碳化硅表面直接接触发生氧化反应,将碳化硅表面氧化。最后在半导体晶圆精抛工艺中可用硅溶胶抛光液搭配阻尼布精抛垫抛光。
根据查询第三代半导体产业观察相关信息得知,碳化硅外延片***用100nm以内的氧化硅抛光液搭配黑色阻尼布精抛垫使用,使用单面抛光机对碳化硅衬底片的Si面进行抛光。因此,碳化硅外延片需要100nm以内的抛光液。
从碳化硅来看,还需要“降低衬底生长缺陷,以及提高工艺效率” 。
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