xfythy 发布于2024-02-25 11:35:07 碳化硅板 17 次
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1、化学成分一样,都是碳元素与硅元素一比一的物质的量组成,化学式都是SiC,无压烧结碳化硅是碳化硅的一种类型。之所以物理性质不同是因为晶体结构不同。
2、化学式为SiC。无色晶体,外表氧化或含杂质时呈蓝黑色。具有金刚石结构的碳化硅变体俗称金刚砂。硬度挨近金刚石,热安稳性好,对氢氟酸水溶液和浓硫酸安稳,对浓氢氟酸与硝酸的混合酸或磷酸则不安稳。
3、无压烧结碳化硅SSiC和热压烧结SiC 无压烧结SiC它是***用超细SiC微粉(粒度约在0.1~0.2微米)加适当的添加剂、粘结剂压制成型,然后再2000~2200摄氏度的温度下烧结而成的。适合用于数量少、规格品种多的机械密封环。
4、合成碳化硅(Synthetic Moissanite)又名合成莫桑石、合成碳硅石(化学成分SiC),色散0.104比钻石(0.044)大,折射率65-69(钻石42),具有与钻石相同的金刚光泽,“火彩”更强,比以往任何仿制品更接近钻石。
5、碳化硅,是一种无机物,化学式为SiC,是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生产绿色碳化硅时需要加食盐)等原料通过电阻炉高温冶炼而成。碳化硅在大自然也存在罕见的矿物,莫桑石。
6、碳化硅(又名:碳硅石、金钢砂或耐火砂),化学简式:SiC,是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑为原料通过电阻炉高温冶炼而成的一种耐火材料。碳化硅在大自然也存在于罕见的矿物,莫桑石中。
一是使用温度不同。反应烧结1300度左右,重结晶1600度左右。二是是烧结方式不同。反应烧结渗硅烧结温度低。重结晶烧结温度高,不超过使用温度的情况下反应烧结比重结晶抗弯强度高。
烧制过程不同。反应烧结是在较低的温度下,使游离硅渗透到碳化硅中。而无压烧结是在2100度下,自然收缩而成的碳化硅制品。烧结的产品技术参数不同。反应的体积密度、硬度、抗压强度等与无压的碳化硅产品技术参数不同。
据我所知沈阳星光技术陶瓷公司技术力量最强,干重结晶碳化硅陶瓷最内行,只是他们不大张扬,脚踏实地做企业、做产品,可以做深入了解。
无压碳化硅与碳化硅的区别如下。无压烧结:不同的产品选择的结合剂不同,在烧结过程中没有压力,包括气相压力。
但是常压烧结碳化硅制备难度较反应烧结碳化硅为高,所以成本也高。
无压烧结碳化硅SSiC和热压烧结SiC 无压烧结SiC它是***用超细SiC微粉(粒度约在0.1~0.2微米)加适当的添加剂、粘结剂压制成型,然后再2000~2200摄氏度的温度下烧结而成的。适合用于数量少、规格品种多的机械密封环。
sic质制品因制备方式、应用领域及形态等而多种多样。
不同的芯片有不同的集成规模,大到几亿;小到几几百个晶体管。晶体管有两种状态,开和关,用0来表示。
集成电路又包括SOP、SOJ、PLCC、LCCC、QFP、BGA、CSP、FC、MCM等。
.固定环及转动环由各种不同材质,SSIC,碳素,陶瓷制成,可承受各种不同的化学药水。
酚醛树脂作为碳源,在烧结过程中,使碳化硅表面的二氧化硅形成碳化硅,从而增加碳化硅的表面能,促进烧结,烧结过后产品内部没有残留的硅,提高产品的耐腐蚀性。
SiC与水蒸气在1300-1400℃作用,但要到1775-1800℃才强烈的作用:SiC+2H2O→SiO2+CH4 SiC在氧中,在1000℃以下不被氧化,在1350℃时显著地氧化。在1350-1500℃之间形成SiO2,而SiO2在1700℃左右熔化。
碳化硅和氧气:碳化硅在高温下会与氧气发生反应,形成二氧化硅(SiO2)。这个反应类似于燃烧,但需要高温,通常在1000摄氏度以上才会明显发生。这是碳化硅陶瓷在高温环境中稳定的原因之一。
然而,日本研究人员却认为SiC的致密并不存在热力学方面的限制。还有学者认为,SiC的致密化机理可能是液相烧结,他们发现:在同时添加B和C的β-SiC烧结体中,有富B的液相存在于晶界处。关于无压烧结机理,目前尚无定论。
而且高温力学性能(强度、抗蠕变性等)是已知陶瓷材料中最佳的。热压烧结、无压烧结、热等静压烧结的材料,其高温强度可一直维持到1600℃,是陶瓷材料中高温强度最好的材料。碳化硅陶瓷表面氧化问度700度以上才能氧化。
无压碳化硅与碳化硅的区别如下。无压烧结:不同的产品选择的结合剂不同,在烧结过程中没有压力,包括气相压力。
碳化硅从颜色上分为黑碳化硅和绿碳化硅,在晶相上主要有α相与β相,常压烧结使用的碳化硅想在主要是以α相碳化硅粉体为主,因为两种相体的形成是与冶炼温度有关系,所以并没有完全的分开,两种都存在。
重结晶:是通过高温约2400度左右烧成使坯体中的碳化硅气化后重新结晶生成碳化硅结合坯体中的碳化硅颗粒。无压烧结:不同的产品选择的结合剂不同,在烧结过程中没有压力,包括气相压力。
烧制过程不同。反应烧结是在较低的温度下,使游离硅渗透到碳化硅中。而无压烧结是在2100度下,自然收缩而成的碳化硅制品。烧结的产品技术参数不同。反应的体积密度、硬度、抗压强度等与无压的碳化硅产品技术参数不同。
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